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L'industrie chinoise des semi-conducteurs a franchi une étape importante avec la publication et la mise en œuvre officielles de la toute première norme de groupe du pays pour les générateurs d'ozone de qualité semi-conducteur. Publié le 9 décembre 2025, les « Exigences techniques pour les générateurs d'ozone de qualité semi-conducteur » (T/CIET 1946-2025) ont été dirigées par Qingdao Guolin Semiconductor Technology Co., Ltd. en collaboration avec 17 grandes entreprises de la chaîne d'approvisionnement des semi-conducteurs.
Cette norme historique comble une lacune critique dans les spécifications techniques nationales pour les équipements à l'ozone utilisés dans la fabrication de semi-conducteurs et d'écrans. Les générateurs d'ozone jouent un rôle indispensable dans les processus clés des semi-conducteurs, notamment le dépôt de couches minces, le nettoyage des tranches et l'élimination des photorésists, où leurs performances techniques et leur fiabilité ont un impact direct sur les rendements de fabrication des puces.
La technologie Ozone Machine est devenue essentielle dans les usines de fabrication de semi-conducteurs modernes, où les exigences en matière de propreté des surfaces ont atteint une précision de niveau atomique. Des tests récents en laboratoire démontrent que les systèmes avancés de nettoyage à l'ozone UV peuvent réduire les contaminants organiques sur les tranches de silicium de 50 nm à seulement 0,5 nm, ce qui permet d'obtenir une efficacité de nettoyage 100 fois supérieure à celle des méthodes traditionnelles. Ce niveau de précision est essentiel à mesure que l’industrie progresse vers des nœuds de processus de 5 nm et 3 nm.
Les générateurs d'ozone industriels conçus pour les applications de semi-conducteurs utilisent des méthodes de décharge corona ou ultraviolettes pour générer des concentrations d'ozone précises adaptées aux exigences de fabrication spécifiques. Contrairement aux processus de nettoyage humide conventionnels qui reposent sur l'acide sulfurique et le peroxyde d'hydrogène, qui peuvent laisser des résidus chimiques et générer d'importantes eaux usées, le nettoyage à base d'ozone offre une alternative sèche et sans résidus qui se décompose naturellement en oxygène après utilisation.
La norme nouvellement établie a été développée grâce à une collaboration approfondie impliquant des acteurs clés de l'industrie, notamment Beijing North Huachuang Microelectronics Equipment Co., HuaHai Qingke Co., Tuojing Semiconductor Equipment et Shengmei Semiconductor Equipment. Cette large participation de l'industrie garantit la rigueur scientifique, l'applicabilité et la représentativité de la norme dans l'ensemble de l'écosystème des semi-conducteurs.
Les applications des machines de désinfection à l'ozone s'étendent au-delà du nettoyage des plaquettes pour inclure des processus d'oxydation avancés pour éliminer les contaminants organiques des équipements et installations de fabrication de semi-conducteurs. La technologie élimine efficacement les résidus de résine photosensible, les traces de solvants organiques et les contaminants moléculaires en suspension dans l'air qui peuvent compromettre le rendement des copeaux.
L'effort de normalisation, qui a débuté avec l'approbation du projet en mars 2025 et s'est terminé par la publication finale en décembre 2025, établit des spécifications techniques complètes et des références de fiabilité pour les équipements de production d'ozone. Cela fournit aux fabricants de semi-conducteurs des critères clairs et quantifiables pour la sélection des équipements et la validation des processus.
Les analystes du secteur prévoient que le marché mondial des générateurs d'ozone atteindra 2,36 milliards de dollars d'ici 2030, avec une croissance de 8,0 %, en partie due à l'augmentation des investissements dans les infrastructures de fabrication de semi-conducteurs et au besoin de solutions de nettoyage avancées. La nouvelle norme chinoise permet aux fabricants nationaux d'être plus compétitifs sur ce marché en expansion, tout en soutenant l'initiative nationale plus large visant à renforcer les capacités nationales en matière d'équipements semi-conducteurs.
À l’avenir, la mise en œuvre de cette norme devrait accélérer l’adoption de générateurs d’ozone produits localement dans les usines chinoises de semi-conducteurs, réduisant ainsi la dépendance à l’égard des équipements importés tout en garantissant une qualité et des performances constantes. Alors que l'industrie des semi-conducteurs poursuit son expansion rapide, la technologie standardisée de l'ozone jouera un rôle de plus en plus vital en permettant les environnements de fabrication précis et sans contamination requis pour la production de puces de nouvelle génération.
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